深圳清溢光電股份有限公司（以下簡稱為“公司”）創(chuàng)立于1997年8月，由清溢精密光電（深圳）有限公司整體改制而來，注冊資本為20000萬元人民幣，主要從事掩膜版的研發(fā)、設計、生產(chǎn)和銷售業(yè)務，是國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一。公司產(chǎn)品主要應用于平板顯示、半導體芯片、觸控、電路板等行業(yè)，這些行業(yè)的產(chǎn)品廣泛應用于下游消費電子（如電視、手機、筆記本電腦、平板電腦、可穿戴設備）、車載電子、人工智能、網(wǎng)絡通信、家用電器、LED照明、工控電子等領(lǐng)域。公司2008年12月被認定為深圳市首批“國家高新技術(shù)企業(yè)”。公司擁有深圳市光掩膜技術(shù)研究開發(fā)中心和廣東省光掩膜工程技術(shù)研究開發(fā)中心，在國內(nèi)掩膜版領(lǐng)域，代表了中國掩膜版產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)先技術(shù)水平。公司精益求精，不斷創(chuàng)新，致力于成為中國掩膜版行業(yè)的領(lǐng)跑者，先進的掩膜版產(chǎn)品和服務提供商。近日領(lǐng)航財經(jīng)資訊網(wǎng)（zongmei365.com.cn)整理深圳清溢光電主要風險如下：
一、技術(shù)風險
目前全球范圍內(nèi)平板顯示、半導體、觸控等行業(yè)基本都采用掩膜版作為基準
圖案進行曝光復制量產(chǎn)，無掩膜光刻技術(shù)精度低，主要用于電路板行業(yè)。掩膜版
光刻制作技術(shù)通常分為激光直寫法和電子束直寫法。激光直寫法使用波長為
193nm、248nm、365nm、413nm 等的連續(xù)或脈沖激光光源，整形精縮成為
200~500nm 的激光點在掩膜光刻膠上畫出電路圖案后，通過顯影蝕刻獲得電路圖
案；電子束直寫法使用小至納米級的電子束斑為筆，在掩膜光刻膠上畫出電路圖
案，掩膜版上的電子束膠在曝光顯影后，通過濕法或干法蝕刻獲得電路圖形。
激光直寫法具有以下優(yōu)勢：1、光刻速度可達到數(shù)百至數(shù)千 mm²/min，相對
電子束直寫法的速度顯著更快；2、掩膜版尺寸達到 1700mm x 2000mm，大尺寸
掩膜版能提高下游廠商光刻工序的曝光效率，同時也大大降低了下游廠商的生產(chǎn)
成本。但激光直寫法制作的掩膜版精度不如電子束直寫法，電子束直寫法制作圖
形精度達到納米級，但由于其速度較慢，目前僅限于制作小尺寸掩膜版。
發(fā)行人目前主要采用激光直寫法生產(chǎn)掩膜版，與此同時發(fā)行人的技術(shù)團隊也
積極關(guān)注著國內(nèi)外電子束直寫法和無掩膜版光刻工藝技術(shù)在理論和實驗方面最
新的研究進展。激光直寫法和電子束直寫法生產(chǎn)工藝技術(shù)都已經(jīng)比較成熟，隨著
科學研究的進步，不排除掩膜版行業(yè)會出現(xiàn)新的無掩膜光刻技術(shù)對原有的工藝技
術(shù)形成替代，從而產(chǎn)生技術(shù)替代風險。
二、經(jīng)營風險
（一）重資產(chǎn)經(jīng)營的風險
公司所處掩膜版行業(yè)為資本密集型行業(yè)，固定成本投入較大，報告期內(nèi)隨著
公司經(jīng)營規(guī)模擴大和產(chǎn)品結(jié)構(gòu)升級，公司積極對生產(chǎn)線進行改造升級，報告期各
期末固定資產(chǎn)余額呈上升趨勢，賬面價值分別為 26,493.14 萬元、37,294.56 萬元
和 39,467.76 萬元，各期折舊金額分別為 3,631.27 萬元、4,348.37 萬元、4,878.07
萬元。目前公司固定資產(chǎn)使用情況良好，核心生產(chǎn)設備產(chǎn)能利用率較高，但未來
如果出現(xiàn)下游客戶需求大幅減少、公司銷量大幅降低的情形，將可能導致公司產(chǎn)
能過剩的風險，較高的固定成本投入將對公司經(jīng)營業(yè)績產(chǎn)生不利影響。
（二）市場競爭加劇的風險
近年來隨著平板顯示、觸控和半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，掩膜版市場需求旺盛。
目前行業(yè)內(nèi)競爭對手主要有日本的 SKE、HOYA、DNP、Toppan、韓國的 LG-IT、
美國的福尼克斯、中國臺灣的臺灣光罩和中國大陸的路維光電等，行業(yè)集中程度
較高。隨著下游產(chǎn)業(yè)向中國大陸不斷轉(zhuǎn)移，若主要競爭對手未來加大對中國大陸
市場的重視與投入，將導致行業(yè)競爭加劇，對公司的經(jīng)營業(yè)績產(chǎn)生一定的影響。
（三）下游產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整風險
公司產(chǎn)品主要應用于平板顯示、半導體芯片、觸控以及電路板行業(yè)，目前上
述行業(yè)在全球范圍內(nèi)呈快速發(fā)展態(tài)勢，且有加快向中國大陸轉(zhuǎn)移的趨勢。隨著消
費電子產(chǎn)品技術(shù)革新、消費者偏好及市場熱點的變化，公司下游產(chǎn)業(yè)可能出現(xiàn)結(jié)
構(gòu)性調(diào)整，各細分行業(yè)市場對掩膜版的需求結(jié)構(gòu)可能發(fā)生較大變化，如果公司不
能迅速覺察并調(diào)整產(chǎn)品思路以適應該等變化，將會對公司的業(yè)績以及長遠發(fā)展產(chǎn)
生一定的不利影響。
（四）原材料價格波動的風險
公司主要原材料為掩膜版基板。掩膜版基板的采購成本是公司產(chǎn)品生產(chǎn)成本
的主要組成部分，掩膜版基板價格的波動對公司產(chǎn)品成本的影響較大。公司實行
定制化生產(chǎn)且生產(chǎn)周期較短，可以將大部分原材料價格波動轉(zhuǎn)移到銷售價格的調(diào)
整上。但若未來掩膜版基板價格出現(xiàn)大幅上漲的同時公司不能夠及時將價格波動
傳遞到銷售價格的調(diào)整上，則公司盈利水平會受到較大影響。
（五）主要原材料出口國（地區(qū)）和主要產(chǎn)品進口國（地區(qū)）政策調(diào)整風險
公司掩膜版產(chǎn)品的主要原材料掩膜版基板的境外供應商集中在日本、韓國、
中國臺灣。市場集中但供應相對充足，至今未出現(xiàn)上述國家或地區(qū)對掩膜版基板
的出口限制或貿(mào)易摩擦。若未來上述國家或地區(qū)為保護其本國或地區(qū)相關(guān)行業(yè)的
發(fā)展，限制掩膜版基板的出口或制造貿(mào)易摩擦，將可能對公司的生產(chǎn)經(jīng)營造成不
利影響。
公司的掩膜版產(chǎn)品部分出口，主要銷往中國臺灣、新加坡，至今未出現(xiàn)上述
國家或地區(qū)對掩膜版的進口限制或貿(mào)易摩擦。若未來上述國家或地區(qū)為保護其本
國或地區(qū)相關(guān)行業(yè)的發(fā)展，調(diào)整掩膜版產(chǎn)品進口政策，將可能對公司掩膜版產(chǎn)品
銷售造成不利影響。
（六）主要供應商相對集中的風險
公司主要原材料行業(yè)集中程度較高，供應商數(shù)量較少，但供應相對充足。報
告期內(nèi)，公司向前五大供應商采購原材料的金額分別為 11,959.34 萬元、12,244.3
和 16,433.78 萬元，占當期原材料采購總額的比例分別為 82.98%、81.60%和
84.02%。公司的主要原材料供應商經(jīng)營情況良好，且與公司建立了長期、穩(wěn)定、
良好的合作關(guān)系，但未來如果主要供應商的經(jīng)營狀況、業(yè)務模式、交付能力等發(fā)
生重大不利變化，短期內(nèi)將對公司的正常經(jīng)營和盈利能力造成一定程度的影響。
（七）關(guān)鍵生產(chǎn)設備的采購風險
公司主要生產(chǎn)設備光刻機的供應商集中度較高，主要為瑞典 Mycronic、德
國海德堡儀器兩家公司，其中最高端的平板顯示用光刻機由瑞典 Mycronic 生產(chǎn)，
全球主要平板顯示用掩膜版制造商對其生產(chǎn)的設備存在較高程度依賴。報告期內(nèi)
上述設備供應商與公司合作關(guān)系良好，設備供應商根據(jù)公司訂單需求及時供應光
刻機設備。但若未來設備供應商出現(xiàn)產(chǎn)能受限、交貨周期延長或產(chǎn)品價格大幅提
升等情況，將可能導致公司無法及時采購上述設備，對公司生產(chǎn)規(guī)模的擴大將造
成不利影響。
（八）主要客戶相對集中的風險
報告期內(nèi)，公司向前五大客戶銷售金額分別為 15,358.12 萬元、14,522.28 萬
元、19,531.62萬元，占各期營業(yè)收入的比例分別為 48.81%、45.47%、47.95%，
銷售客戶相對集中。公司主要客戶為平板顯示、半導體芯片等電子元器件行業(yè)的
知名企業(yè)，目前公司與主要客戶合作情況良好，但如果未來公司主要客戶的經(jīng)營
狀況出現(xiàn)不利變化或主要客戶對公司產(chǎn)品需求下降，將可能對公司業(yè)務經(jīng)營和盈
利能力造成不利影響。
（九）產(chǎn)品質(zhì)量控制的風險
公司主要產(chǎn)品掩膜版是下游電子元器件行業(yè)生產(chǎn)制造過程中的核心模具，是
下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。公司根據(jù)與客戶簽訂的銷售合同/訂單，
向客戶提供符合其品質(zhì)指標要求的產(chǎn)品，報告期內(nèi)未發(fā)生因重大產(chǎn)品質(zhì)量缺陷導
致客戶索賠的情形，但如果未來公司出現(xiàn)重大產(chǎn)品質(zhì)量事故，將可能面臨客戶根
據(jù)銷售合同約定要求公司給予相應賠償或中斷與公司業(yè)務合作的風險，從而對公
司經(jīng)營業(yè)績產(chǎn)生不利影響。
（十）環(huán)境保護的風險
公司生產(chǎn)經(jīng)營中產(chǎn)生廢液、廢水、廢氣等環(huán)境污染物，報告期內(nèi)公司持續(xù)進
行環(huán)保投入、提升環(huán)保處理能力，不存在因違法環(huán)境保護相關(guān)法律、法規(guī)而受到
重大處罰的情形。未來隨著國家環(huán)境保護政策進一步完善，環(huán)保標準亦可能逐步
提高，如果公司無法達到相應的環(huán)保要求或出現(xiàn)重大環(huán)保事故，將可能產(chǎn)生因違
反環(huán)境保護法律、法規(guī)而受到相關(guān)部門處罰的風險，對公司生產(chǎn)經(jīng)營造成不利影
響。
三、內(nèi)控風險
（一）公司經(jīng)營規(guī)模擴大帶來的管理風險
隨著公司業(yè)務發(fā)展和本次股票發(fā)行后募集資金投資項目的實施，公司總體經(jīng)
營規(guī)模將進一步擴大，進而對公司資源整合、技術(shù)研發(fā)、市場開拓、組織建設、
營運管理、財務管理、內(nèi)部控制等方面的能力提出更高要求。若公司不能根據(jù)未
來快速發(fā)展的需要及時優(yōu)化公司內(nèi)部組織結(jié)構(gòu)，適時調(diào)整和優(yōu)化管理體系，提升
公司內(nèi)部運營效率，將對公司經(jīng)營業(yè)績產(chǎn)生不利影響。
（二）高級管理人員和技術(shù)人員流失的風險
公司所處行業(yè)是資本、技術(shù)密集型行業(yè)，經(jīng)驗豐富的管理人員以及技術(shù)研發(fā)
人才是公司生存和發(fā)展的重要基礎(chǔ)。但隨著市場競爭加劇，企業(yè)之間對人才的爭
奪將更加激烈，未來公司可能面臨管理人員以及技術(shù)研發(fā)人才流失的風險。
（三）知識產(chǎn)權(quán)流失的風險
公司為國家高新技術(shù)企業(yè)，自成立以來一直堅持自主創(chuàng)新和研發(fā)，目前公司
已掌握了 21 項核心工藝技術(shù)，絕大多數(shù)核心技術(shù)均取得專利保護。截至本招股
說明書簽署日，公司擁有 35 項專利和 26 項軟件著作權(quán)，是公司生產(chǎn)經(jīng)營中重要
的無形資產(chǎn)。公司已經(jīng)采取了嚴密的知識產(chǎn)權(quán)保護措施，積極通過申請專利或軟
件著作權(quán)等方法予以保護，但不排除知識產(chǎn)權(quán)仍存在被侵害的風險。如果未來公
司核心技術(shù)、知識產(chǎn)權(quán)大量流失或遭受侵害，將可能削弱公司在市場競爭中的競
爭優(yōu)勢，從而對公司經(jīng)營和業(yè)績產(chǎn)生不利影響。
（四）信息安全和保密控制的風險
掩膜版是承載下游客戶圖形設計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體，公司在
業(yè)務經(jīng)營中會接觸到客戶的設計圖形或工藝技術(shù)等重要信息，公司與客戶簽署了
相關(guān)保密協(xié)議并負有保密義務。公司已經(jīng)建立嚴格的信息安全管理制度，實施充
分的信息安全技術(shù)手段消除或降低泄密風險，并獲得 ISO27000 信息安全體系認
證，但仍可能存在因管理或技術(shù)漏洞被惡意利用而導致客戶信息泄密的風險，將
可能導致公司承擔違約責任，對公司聲譽和經(jīng)營業(yè)績產(chǎn)生不利影響。
（五）實際控制人控制風險
截至本招股說明書簽署日，公司實際控制人唐英敏、唐英年共同控制公司
92.6250%股份的表決權(quán)。本次發(fā)行后，唐英敏、唐英年仍為公司的實際控制人。
公司自設立以來未發(fā)生過實際控制人利用其控股地位侵害公司利益的行為，公司
已通過制定并實施“三會”議事規(guī)則，建立獨立董事制度，成立董事會專門委員
會等一系列措施不斷完善公司法人治理結(jié)構(gòu)。但如果實際控制人利用其控制地位，
對公司發(fā)展戰(zhàn)略、生產(chǎn)經(jīng)營決策、利潤分配、人事安排等重大事項的決策實施不
正當影響，則可能存在損害公司及其他股東利益的風險